模拟电子线路

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NCHM1.二极管
- P型半导体的引线称为正极(或阳极,用字母A表示)
- N型半导体的引线称为负极(或阴极,用字母K表示)
典型半导体封装中一般带有白色圆环的为负极,引脚长的为正极
- 单向导电性
1.1半导体物理基础知识
半导体是导电能力介于导体和绝缘体之间的物质,其电阻\((10^{-3}{\sim}10^9)\Omega\cdot\mathrm{cm}\)
1.1.1本征半导体
- 简化描述
常常把内层电子和原子核看作一个整体,称为惯性核,惯性核的周围都是价电子
- 本征半导体
整块晶体内部晶格排列完全一致的晶体称为单晶,硅,锗的单晶称为本征半导体
- 本征激发和复合
- 当温度升高或受到光线照射时,共价键中的价电子从外界获得足够的能量,从而挣脱共价键的束缚,离开原子从而形成自由电子,同时共价键中留下相同数量的空穴,这种现象称为本征激发
空穴:空穴又称电洞(Electron hole),在固体物理学中指共价键上流失一个电子,最后在共价键上留下空位的现象。即共价键中的一些价电子由于热运动获得一些能量,从而摆脱共价键的约束成为自由电子,同时在共价键上留下空位,我们称这些空位为空穴。
一个呈电中性的原子,其正电的质子和负电的电子的数量是相等的。现在由于少了一个负电的电子,所以那里就会呈现出一个正电性的空位——空穴。当有外面一个电子进来掉进了空穴,就会发出电磁波——光子。
空穴虽然实际上不存在,只是一个虚拟出来的粒子,但是考虑宏观模型的时候,完全可以把空穴作为一个带正电的粒子考虑。
- 半导体是依靠自由电子和空穴两种载流子导电的物资
同时也存在着本征复合二者处于一个动态平衡
- 热平衡载流子浓度
当温度一定时,上述本征激发与复合达到动态平衡此时热平衡载流子浓度值\(n_i\)(自由电子浓度值或空穴浓度值)为
\[ n_i=AT^{3/2}\text{e}^{\frac{-E_{g0}}{2kT}} \]
1.1.2杂质半导体
在本征半导体中掺入一定量的杂质元素形成杂质半导体
类型 别称 掺入杂质 影响 N型半导体 电型半导体 五价元素(磷等) 自由电子浓度大大增加 P型半导体 空穴型半导体 三价元素(硼等) 空穴浓度大大增加
- N型半导体
在三极管工作于饱和区时,需要考虑饱和压降(Saturation Voltage Drop),特别是发射结(BE结)和集电结(BC结)的导通情况与压降。此时,三极管的两个PN结都处于正向偏置状态,但由于不同的结特性,压降会有所不同。
1. 硅三极管的饱和压降:
发射结(BE结)的压降:
- 在饱和状态下,BE结仍然保持正向偏置,导通电压略高于放大区的电压。通常为 0.7V 到 0.8V 左右,比在放大区时的0.6V略高一些。这是因为饱和区中,电流较大,载流子的注入增加,导致压降略增。
集电结(BC结)的压降:
- 在饱和区,集电结由反偏转为正偏,成为导通状态。集电极与基极之间的压降通常为 0.1V 到 0.3V。这个压降称为饱和压降(V_CE(sat)),它反映了三极管进入饱和区时集电极和发射极之间的电压差。
- 通常硅三极管的V_CE(sat)在 0.1V 至 0.3V 之间,具体数值取决于电流的大小和三极管的特性。
2. 锗三极管的饱和压降:
发射结(BE结)的压降:
- 对于锗三极管,发射结在饱和区的导通电压略高于放大区,通常在 0.3V 到 0.4V 之间。这比放大区时的0.2V略高,类似于硅三极管在饱和区的情况。
集电结(BC结)的压降:
- 集电结在饱和区正偏时,集电极与基极之间的压降较小,通常在 0.05V 到 0.2V 左右,低于硅三极管的饱和压降。
3. 饱和压降总结:
硅三极管:
- BE结导通压降:0.7V 到 0.8V
- BC结饱和压降(V_CE(sat)):0.1V 到 0.3V
锗三极管:
- BE结导通压降:0.3V 到 0.4V
- BC结饱和压降(V_CE(sat)):0.05V 到 0.2V
在饱和状态下,三极管两端的电压降较小,这是为了保证大电流能够流过,这种压降在设计中需要特别考虑。